“使用【机械整体优化指导】

，对当前EUV光刻机，优化方向为，X光刻机，整体思路为，利用X光刻机直写式优势，通过晶体衍射效应，进而实现对X光的缩放效果，从而实现大规模生产。”

“正在进行优化，请稍后……”

林晓再次睁开了眼睛。

逝者已矣，生者如斯。

那位国安的工作人员说得很好，他们期待着他能够做出更多，以及更加重要的成就，那才显得他们的使命有意义。

那他，也不能辜负了他们的期望，尤其是那位因他而死的同志。

国外要在EUV光源上进行制裁，那他就换X光。

国外要在掩膜版上进行制裁，那他就搞无掩模X光刻机。

他不会因为敌人的所作所为生气，他只会让那些敌人们后悔。